Target sputtering indium oksida (indium oxide sputtering target) In2O3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target ini berfungsi sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis di atas substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik pelapisan tipis yang sudah teruji, dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan bentuk dan ukuran berbeda. Prosesnya mudah diulang sehingga dapat dikembangkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis indium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi perhatian utama.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari proyek riset ke batch produksi dengan substrat berukuran menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN39
- Material: Indium Oksida (In2O3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01IN39
—
—