Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 30.689.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 30.689.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Indium oksida (In2O3) adalah keramik oksida konduktif transparan tipe-n, termasuk golongan semikonduktor oksida logam. Target sputtering merupakan potongan padat material ini yang digunakan sebagai sumber pada physical vapor deposition, di mana ion menembak target dalam ruang vakum sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat membentuk film tipis.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan konduktif transparan untuk layar dan panel sentuh
  • Lapisan aktif pada transistor film tipis
  • Elektroda dan lapisan penyangga pada perangkat fotovoltaik dan optoelektronik
  • Lapisan sensing gas berbentuk film tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—