Target sputtering indium oksida (In2O3) adalah material sumber keramik oksida yang digunakan dalam proses physical vapor deposition. Material ini termasuk golongan oksida konduktif transparan berbasis indium, yang memadukan transparansi optik dengan konduktivitas listrik setelah membentuk lapisan tipis. Target sputtering dipasok dalam bentuk padat dan terkikis secara bertahap selama proses deposisi, sehingga kerapatan dan keseragaman target berperan penting bagi kualitas lapisan.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis oksida konduktif transparan untuk riset
- Pembuatan perangkat optoelektronik seperti layar dan fotodetektor
- Pengembangan sel surya lapisan tipis dan fotovoltaik
- Pengembangan lapisan sensor gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—