Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 31.541.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 31.541.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Indium oksida (In2O3) adalah semikonduktor oksida logam tipe-n dan komponen utama oksida konduktif transparan berbasis indium. Sputtering target adalah lempeng padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis melalui proses vakum yang terkendali.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan elektroda transparan untuk layar dan panel sentuh
  • Studi semikonduktor oksida dan thin-film transistor
  • Pengembangan lapisan sensing gas
  • Riset lapisan kontak depan untuk sel surya lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—