Target sputtering indium tin oksida (indium tin oxide/ITO sputtering target, In203:Sn02) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis di atas substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering dapat digunakan untuk beragam material dan substrat dengan bentuk serta ukuran berbeda. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, sehingga metode yang dikembangkan dalam proyek riset skala kecil dapat diterapkan pada batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung pada kondisi proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis ITO pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis dengan pengikisan material melalui sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang kemudian dapat ditingkatkan ke skala produksi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN45
- Material: Indium tin oksida/ITO (In203:Sn02)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01IN45
—
—