Target sputtering indium tin oxide (ITO sputtering target, In203:Sn02) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan bentuk dan ukuran berbeda. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, tetapi memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis ITO pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi material dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN49
- Material: Indium Tin Oxide/ITO (In203:Sn02)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01IN49
—
—