Target sputtering indium tin oxide (ITO sputtering target, In203:Sn02) dari Nanografi ini merupakan bahan sumber dengan kemurnian 99,99% untuk membuat lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering. Target berukuran 8'' dengan ketebalan 0,250'' dan dipasok per satu buah.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini cocok untuk beragam bentuk dan ukuran substrat, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat sputtering cukup kompleks, tetapi memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Pengembangan riset yang ditingkatkan dari proyek kecil ke batch produksi berarea menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN55
- Material: Indium Tin Oxide/ITO (In203:Sn02)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01IN55
—
—