Target sputtering indium zinc oksida (indium zinc oxide/IZO sputtering target, InZnO) ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target berfungsi sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter: atom-atom dilepaskan dari permukaan target lalu mengendap sebagai lapisan tipis (thin film) di atas substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering dapat digunakan untuk berbagai jenis material dan substrat dengan bentuk serta ukuran beragam. Prosesnya mudah diulang sehingga cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, sekaligus dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, tetapi memberikan kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis IZO pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan utama.
- Analisis komposisi melalui sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN92
- Material: Indium Zinc Oksida (IZO, InZnO)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01IN92
—
—