Target sputtering besi adalah bentuk padat siap-sputter dari unsur besi, logam transisi yang banyak digunakan dalam ilmu material. Target ini berfungsi sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis magnetik untuk penyimpanan data dan studi spintronik
- Fabrikasi sensor magnetik dan struktur uji
- Lapisan metalisasi dan konduktif dalam riset mikroelektronika
- Studi permukaan dan pelapisan di lingkungan laboratorium
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—