Target sputtering besi (iron (Fe) sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Target ini berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan metode yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset dan pengembangan berskala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat.
Banyaknya parameter dalam deposisi sputter memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis besi pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis material target, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE04
- Material: Besi (Fe)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01FE04
—
—