Target sputtering besi adalah cakram atau lempeng padat dari unsur besi yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering. Besi merupakan logam transisi dengan sifat feromagnetik, sehingga penanganan target dan konfigurasi magnetron perlu memperhatikan sifat magnetiknya. Target ini disediakan untuk riset dan pengembangan deposisi lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis magnetik untuk riset spintronik dan penyimpanan magnetik
- Studi metalisasi dan lapisan konduktif dalam mikroelektronika
- Pembuatan lapisan tipis katalitik untuk eksperimen kimia permukaan
- Pengembangan lapisan pelindung dan fungsional berbahan logam
- Persiapan lapisan elektroda untuk prototipe perangkat energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—