Target sputtering besi (iron (Fe) sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,9%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat proses ini kompleks, tetapi memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Selain untuk deposisi, target sputtering juga digunakan dalam etsa sputter dan metode analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Deposisi lapisan tipis besi pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter untuk kebutuhan etsa dengan anisotropi tinggi ketika selektivitas tidak menjadi perhatian.
- Analisis komposisi dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE07
- Material: Besi (Fe)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01FE07
—
—