Target sputtering besi (iron sputtering target) dari Nanografi ini berupa material besi dengan kemurnian 99,95%, berukuran 3'' dan tebal 0,125''. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom-atom besi dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis di atas substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik lapisan tipis yang sudah teruji, dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya memberikan hasil yang dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter memang membuat proses ini kompleks, namun justru memberi kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis besi pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi ketika selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Riset terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE11
- Material: Besi (Fe)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01FE11
—
—