Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Iron (Fe) Sputtering Targets

Iron (Fe) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 7.118.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 7.118.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering besi (Fe) adalah lempengan logam padat yang dirancang untuk physical vapor deposition (PVD), di mana sistem magnetron atau sistem sputtering lainnya melepaskan atom besi ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Produk ini termasuk dalam golongan target sputtering logam dan digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis skala laboratorium.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis magnetik untuk riset spintronik dan penyimpanan magnetik
  • Lapisan dasar dan lapisan perekat dalam prototipe mikroelektronika dan perangkat lapisan tipis
  • Lapisan logam model untuk studi korosi dan ilmu permukaan
  • Pembuatan lapisan berbasis besi untuk riset katalisis dan sensor

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—