Target sputtering besi merupakan sumber logam padat berbahan dasar besi yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom besi terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Sebagai logam transisi, besi banyak dipelajari untuk lapisan tipis magnetik dan elektronik.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset media penyimpanan magnetik dan lapisan spintronik
- Pelapis logam untuk studi permukaan protektif dan fungsional
- Pengembangan lapisan elektroda dan kontak dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
- Analisis antarmuka dan permukaan dalam riset ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—