Target sputtering besi (Fe) ini adalah target logam yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan film besi tipis pada substrat. Besi termasuk golongan logam transisi dan banyak dipelajari sifat magnetik dan strukturalnya dalam bentuk film tipis. Target ini dipasok berbentuk cakram dengan dimensi sesuai judul produk, dengan kemurnian 99,95%.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis magnetik untuk riset perekaman magnetik dan perangkat spintronik
- Pembuatan lapisan kontak dan elektroda logam pada prototipe perangkat film tipis
- Studi pelapisan permukaan dan eksperimen pertumbuhan film tipis di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
