Target sputtering besi (Fe) adalah cakram logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering. Selama proses deposisi, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Besi merupakan unsur logam transisi, sehingga target ini termasuk golongan target sputtering logam.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis berbasis besi untuk riset perangkat magnetik dan spintronik
- Penyiapan lapisan logam untuk studi ilmu permukaan dan material
- Pembuatan lapisan multilayer dan paduan untuk R&D akademik maupun industri
- Studi elektroda lapis tipis dan lapisan konduktif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
