Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Iron Oxide (Fe3O4) Sputtering Targets, indium

Iron Oxide (Fe3O4) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 30.340.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 30.340.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Besi oksida (Fe3O4), dikenal sebagai magnetit, adalah material oksida keramik dalam golongan oksida logam. Target sputtering ini dirancang untuk physical vapor deposition (PVD), di mana berfungsi sebagai sumber material untuk mendeposisikan lapisan tipis pada substrat. Produk ini juga mencantumkan indium, yang umumnya terkait dengan pengikatan target pada backing plate.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis magnetik untuk riset spintronik dan perangkat magnetik
  • Fabrikasi untuk studi lapisan perekam magnetik
  • Pengembangan lapisan oksida untuk riset sensor gas dan katalisis
  • Persiapan lapisan tipis fungsional untuk studi ilmu material dan rekayasa permukaan

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—