Target sputtering besi oksida (iron oxide sputtering target) Fe3O4 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'', kemurnian 99,9%, dan ikatan indium. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis besi oksida melalui proses sputtering dan tersedia dalam kemasan satu buah.
Deposisi sputter dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Proses yang dikembangkan pada skala riset dan pengembangan dapat diulang secara konsisten lalu ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memang membuat metode ini kompleks, namun memberi kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis dengan mengikis material dari target ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi perhatian.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana atom yang tersputter pada laju konstan diidentifikasi untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE32
- Material: Besi Oksida (Fe3O4)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Ikatan: Indium
- Kode produk: NG0ST01FE32
—
—