Target sputtering besi oksida (iron oxide (Fe3O4) sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Metode sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, dan prosesnya dapat diulang dengan hasil yang konsisten. Metode ini cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil serta dapat ditingkatkan ke batch produksi untuk area substrat menengah hingga besar.
Tergantung pada kondisi proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Deposisi sputter melibatkan banyak parameter yang dapat diatur. Hal ini membuat prosesnya cukup kompleks, tetapi juga memberi pengguna berpengalaman kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis target, misalnya pada spektroskopi massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE18
- Material: Besi Oksida (Fe3O4)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01FE18
—
—