Target sputtering besi oksida (iron oxide Fe3O4 sputtering target) dari Nanografi merupakan bahan sumber dengan kemurnian 99,9% untuk pembuatan lapisan tipis melalui proses sputtering. Setiap keping berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125''.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada berbagai bentuk dan ukuran substrat, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis besi oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE22
- Material: Besi Oksida (Fe3O4)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01FE22
—
—