Target sputtering besi oksida (iron oxide Fe3O4 sputtering target) dari Nanografi ini merupakan bahan sumber dengan kemurnian 99,9% untuk pembuatan lapisan tipis melalui proses sputtering. Target berukuran 7'' dengan ketebalan 0,125'' dan tersedia dalam kemasan 1 buah.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu dipindahkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat digunakan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis besi oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis material target, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Penelitian sputtering sebagai salah satu bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01FE28
- Material: Besi Oksida (Fe3O4)
- Ukuran: 7''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01FE28
—
—