Target sputtering timbal (Pb) adalah target logam padat yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom timbal, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan logam tipis. Produk ini termasuk golongan target sputtering logam yang umum digunakan dalam proses lapisan tipis skala riset. Karena timbal bersifat toksik, penanganan dan pembuangannya harus mengikuti lembar data keselamatan (SDS) dan peraturan laboratorium yang berlaku.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis pada sistem physical vapor deposition
- Pembuatan lapisan uji logam untuk studi ilmu material
- Pengembangan lapisan elektroda dan interkoneksi pada prototipe perangkat lapisan tipis
- Eksperimen pelapisan permukaan dan daya rekat film
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—