Target sputtering timbal (Pb) adalah sumber logam padat yang terbuat dari unsur timbal, dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD) seperti sputtering magnetron DC atau RF. Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom timbal dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Timbal adalah logam berat yang padat dan lunak, sehingga targetnya termasuk dalam golongan material sputtering logam yang digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis. Karena timbal bersifat toksik, penanganannya harus mengikuti prosedur keselamatan laboratorium yang sesuai.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis timbal logam untuk riset material dasar
- Fabrikasi studi lapisan perovskit dan piezoelektrik yang mengandung timbal
- Riset lapisan pelindung radiasi
- Pengembangan lapisan tipis kontak listrik dan lapisan antarmuka
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—