Target sputtering timbal (Pb) adalah target logam padat yang terbuat dari unsur timbal, logam pasca-transisi yang lunak dan berat. Dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD), target berfungsi sebagai material sumber: ion berenergi tinggi menumbuk permukaannya dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Produk ini termasuk dalam kelompok target sputtering logam pada lini nanomaterial dan material laboratorium Nanografi.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis pada struktur logam dan multilapis
- Fabrikasi dan kajian lapisan tipis elektronik serta superkonduktor
- Pengembangan lapisan pelindung dan pelindung radiasi dalam skala laboratorium
- Pengembangan proses dan pelatihan ilmu material pada sistem sputtering PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—