Target sputtering timbal (lead sputtering target) Pb dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99+%, ukuran 4'', dan ketebalan 0,125''. Target ini berfungsi sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana timbal dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan metode yang telah teruji untuk membuat lapisan tipis pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur memang membuat deposisi sputter menjadi proses yang kompleks, namun hal ini memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis timbal pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi ketika selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan dan atom yang terlepas diukur untuk mendeteksi pengotor hingga konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99+% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LE08
- Material: Timbal (Pb)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01LE08
—
—