Target sputtering litium niobat (lithium niobate sputtering target) LiNbO3 ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Produk ini menjadi bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis LiNbO3 pada sistem deposisi sputter dan dipasok per satu buah.
Pada proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang konsisten, serta dapat ditingkatkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis litium niobat pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana sampel di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam kadar sangat rendah.
- Kegiatan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke skala batch produksi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI16
- Material: Litium Niobat (LiNbO3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
—
—