Target sputtering litium niobat (lithium niobate sputtering target, LiNbO3) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,9%. Target ini digunakan sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat ditingkatkan ke produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas bagi pengguna berpengalaman atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis litium niobat pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas bukan prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI19
- Material: Litium Niobat (LiNbO3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01LI19
—
—