Target sputtering litium niobat (lithium niobate sputtering target, LiNbO3) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk menumbuhkan lapisan tipis litium niobat melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputtering dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset kecil dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Tergantung kondisi proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
Selain untuk deposisi, sputtering juga dimanfaatkan dalam etsa anisotropik dan teknik analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Deposisi lapisan tipis litium niobat pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan peningkatan skala, dari proyek R&D kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI20
- Material: Litium Niobat (LiNbO3)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01LI20
—
—