Target sputtering litium fosfat (lithium phosphate sputtering target) Li3PO4 ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'', kemurnian 99,95%, dan ikatan elastomer. Target ini menjadi sumber material untuk membuat lapisan tipis Li3PO4 melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputtering dapat digunakan untuk beragam material dan mampu melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya mudah diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset dan pengembangan berskala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan material, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis litium fosfat pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputtering (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari riset dan pengembangan ke produksi berarea menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI41
- Material: Litium Fosfat (Li3PO4)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Ikatan: Elastomer
- Kode produk: NG0ST01LI41
—
—