Target sputtering litium titanat (lithium titanate sputtering target) Li2TiO3 dari Nanografi ini berbentuk cakram 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%. Target ini menjadi sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Sputtering merupakan metode yang telah teruji untuk membentuk lapisan tipis dari beragam material pada substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten, cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat disesuaikan untuk batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis litium titanat pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk mendeteksi pengotor hingga konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke area substrat sedang hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI50
- Material: Litium Titanat (Li2TiO3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01LI50
—
—