Target sputtering litium titanat (lithium titanate sputtering target) Li2TiO3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,95%. Target ini menjadi bahan sumber untuk pembuatan lapisan tipis melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang konsisten. Proses yang dikembangkan pada skala riset dan pengembangan dapat ditingkatkan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter membuat sputtering menjadi teknik yang cukup kompleks, namun memberi keleluasaan bagi pengguna berpengalaman untuk mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan. Produk dipasok per satu buah.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana sampel di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam kadar sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01LI51
- Material: Litium Titanat (Li2TiO3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
—
—