Target sputtering magnesium fluorida (magnesium fluoride sputtering target, MgF2) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,125''. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber pada proses deposisi sputter, yaitu ketika material dari target terkikis lalu terendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang telah teruji untuk membuat lapisan tipis dari beragam material pada substrat dengan bentuk dan ukuran yang bervariasi. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter ini membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis magnesium fluorida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Teknik analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), dengan material disputter pada laju konstan.
- Peningkatan skala proses deposisi dari riset dan pengembangan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG31
- Material: Magnesium Fluorida (MgF2)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MG31
—
—