Target sputtering magnesium fluorida (magnesium fluoride sputtering target, MgF2) dari Nanografi merupakan bahan sumber untuk membuat lapisan tipis (thin film) dengan teknik sputtering. Target ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,250'', serta tersedia dalam kemasan satu buah.
Pada proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat digunakan untuk beragam material serta bentuk dan ukuran substrat, memberikan hasil yang konsisten, dan dapat ditingkatkan skalanya dari riset skala kecil hingga produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat proses ini kompleks, tetapi justru memberi kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MgF2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, seperti pada spektroskopi massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG34
- Material: Magnesium Fluorida (MgF2)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MG34
—
—