Target sputtering magnesium (magnesium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,98%. Produk ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan atom dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan metode yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur menjadikan deposisi sputter proses yang kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis magnesium pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa tinggi ketika selektivitas tidak menjadi pertimbangan utama.
- Analisis material dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana target di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,98% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG02
- Material: Magnesium (Mg)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MG02
—
—