Target sputtering magnesium (magnesium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 1'', dan ketebalan 0,250''. Produk dipasok per satu keping dan berfungsi sebagai bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis (thin film) dengan metode sputtering.
Pada proses sputtering, atom dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon, dan metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya bersifat repeatable, sehingga pekerjaan yang dimulai dari skala riset dan pengembangan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter ini membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG03
- Material: Magnesium (Mg)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MG03
—
—