Target sputtering magnesium (Mg) merupakan material sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, atom magnesium dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Sebagai logam alkali tanah yang ringan, magnesium termasuk dalam golongan target sputtering logam yang digunakan dalam pengembangan lapisan tipis skala riset.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis pada sistem sputtering laboratorium
- Pengembangan lapisan berbasis magnesium untuk komponen optik dan elektronik
- Pembuatan lapisan mengandung magnesium untuk studi ilmu material dan permukaan
- Optimasi proses dan studi parameter deposisi pada PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—