Target sputtering magnesium (magnesium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,98%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Sputtering merupakan teknologi yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten, sehingga skala penelitian dan pengembangan kecil dapat ditingkatkan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi keleluasaan bagi tenaga ahli untuk mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), proses sputtering yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,98% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG06
- Material: Magnesium (Mg)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MG06
—
—