Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium (Mg) Sputtering Targets

Magnesium (Mg) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 9.402.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 9.402.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering magnesium (Mg) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom magnesium terlepas dan mengendap pada substrat membentuk film tipis. Magnesium merupakan logam alkali tanah yang ringan, dan produk ini termasuk dalam golongan target sputtering logam.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Riset deposisi film tipis pada kaca, silikon, dan substrat lainnya
  • Pembuatan prototipe lapisan film tipis elektronik dan optik
  • Studi film paduan dan senyawa berbasis magnesium
  • Riset permukaan dan antarmuka dalam ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—