Target sputtering magnesium (Mg) adalah material sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis magnesium pada substrat. Magnesium adalah logam alkali tanah yang ringan, dan target ini termasuk dalam kelompok target sputtering logam dari rangkaian Nanografi untuk riset lapisan tipis di laboratorium.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk studi material baterai dan penyimpanan energi
- Studi metalisasi dan pelapisan permukaan pada substrat laboratorium
- Pengembangan lapisan magnesium dan lapisan paduan untuk riset material
- Pembuatan struktur uji untuk eksperimen lapisan tipis optoelektronik dan semikonduktor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—