Target sputtering magnesium (Mg) adalah lempengan logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom magnesium, yang kemudian menempel pada substrat membentuk lapisan tipis. Magnesium merupakan logam alkali tanah yang ringan, dan target ini banyak digunakan dalam riset lapisan fungsional serta perangkat lapisan tipis untuk energi.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk lapisan optik dan pelindung
- Studi lapisan elektroda dan interlayer dalam riset baterai dan penyimpanan energi
- Investigasi permukaan dan paduan di laboratorium ilmu material
- Pengembangan lapisan senyawa berbasis magnesium, seperti MgO, melalui reactive sputtering
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—