Target sputtering magnesium (Mg) adalah cakram atau lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Magnesium merupakan logam alkali tanah yang ringan, dan target sputtering yang terbuat darinya digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis magnesium pada substrat dalam pengaturan riset dan pengembangan.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis magnesium untuk riset ilmu material
- Pengembangan lapisan pelapis mengandung magnesium pada substrat laboratorium
- Pembuatan lapisan uji untuk prototipe perangkat elektronik dan optik
- Studi sputtering reaktif untuk membentuk lapisan senyawa magnesium seperti MgO
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—