Target sputtering magnesium (Mg) merupakan lempeng logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Magnesium adalah logam alkali tanah yang ringan. Selama proses sputtering, ion menghantam permukaan target di dalam ruang vakum sehingga atom-atom terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Produk ini termasuk target logam untuk riset deposisi lapis tipis.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis magnesium metalik untuk riset material
- Sputtering reaktif untuk membentuk lapisan oksida atau nitrida berbasis magnesium
- Studi pelapisan permukaan untuk riset material penyimpan energi dan hidrogen
- Pembuatan prototipe lapisan tipis untuk perangkat optik dan elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—