Target sputtering magnesium (magnesium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,250''. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis magnesium melalui sputtering, teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran.
Proses deposisi sputter bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis dengan mengikis material target ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan luar angkasa (space weathering) yang mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG15
- Material: Magnesium (Mg)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MG15
—
—