Target sputtering magnesium (Mg) adalah sumber logam padat magnesium, logam alkali tanah yang ringan. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana permukaan target dibombardir untuk mengendapkan lapisan tipis berbasis magnesium pada substrat. Target magnesium termasuk dalam golongan target sputtering logam dan umum digunakan di laboratorium riset dan pengembangan serta pekerjaan lapisan tipis skala pilot.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk lapisan optik dan pelindung
- Pengembangan lapisan paduan dan hidrida berbasis magnesium untuk studi penyimpanan hidrogen
- Riset lapisan elektroda dan antarmuka untuk prototipe baterai dan perangkat energi
- Studi lapisan konduktif dan fungsional untuk elektronika dan ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—