Target sputtering magnesium (Mg) merupakan lempeng padat logam magnesium, logam alkali tanah yang dikenal karena bobotnya yang ringan dan reaktivitasnya. Dalam physical vapor deposition (PVD), target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom magnesium terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis pada substrat. Target magnesium termasuk golongan target sputtering logam dan umum digunakan untuk membuat lapisan yang mengandung magnesium, termasuk film oksida, untuk keperluan riset.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk pelapis berbasis magnesium dan magnesium oksida
- Pengembangan lapisan tipis optik dan elektronik di laboratorium akademik dan industri
- Riset material baterai dan energi yang melibatkan film mengandung magnesium
- Studi pelapis permukaan dan pelindung pada berbagai substrat
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—