Target sputtering magnesium (magnesium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,250'', tersedia per satu buah. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter, di mana atom-atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Metode sputtering dapat digunakan untuk beragam material serta bentuk dan ukuran substrat. Proses yang dikembangkan pada skala riset dapat diulang dan ditingkatkan hingga produksi batch dengan area substrat sedang sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Selain deposisi lapisan, sputtering juga dimanfaatkan untuk etsa anisotropik dan analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Deposisi lapisan tipis magnesium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis komposisi dengan SIMS, di mana atom yang terlepas diidentifikasi dengan spektrometri massa hingga pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Pengembangan proses dari skala riset hingga produksi batch dengan area substrat sedang sampai besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG20
- Material: Magnesium (Mg)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
—
—