Target sputtering Magnesium Oxide (MgO) adalah material oksida keramik yang digunakan sebagai target sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. MgO termasuk golongan oksida logam alkali tanah dan dihargai karena sifat isolasi listriknya, transparansi optik yang luas, serta stabilitas kimianya.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga.
- Lapisan penghalang tunnel pada riset magnetic tunnel junction (MTJ) untuk perangkat spintronik
- Lapisan tipis isolator dan dielektrik dalam riset elektronik dan semikonduktor
- Lapisan buffer dan seed untuk pertumbuhan epitaksial film oksida dan nitrida
- Lapisan pelindung dan optik dalam riset dan pengembangan lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—