Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target) dari Nanografi ini berdiameter 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%, tersedia dalam versi indium. Produk ini digunakan untuk membentuk lapisan tipis MgO melalui sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, sehingga dapat melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil sekaligus dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun justru memberi kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis magnesium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui etsa, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG56
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Versi: Indium
- Kode produk: NG0ST01MG56
—
—