Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets, indium

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 40.674.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 40.674.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering magnesium oxide (MgO) adalah lempengan keramik padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis MgO. MgO merupakan keramik oksida celah pita lebar dengan struktur kristal rock-salt, yang dihargai karena sifat isolasi listrik, transparansi optik, dan kestabilan kimianya. Material ini termasuk golongan keramik oksida fungsional yang digunakan dalam riset lapisan tipis.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan penghalang terowongan (tunnel barrier) dalam riset magnetic tunnel junction
  • Lapisan buffer dan seed untuk lapisan tipis oksida epitaksial dan superkonduktor
  • Lapisan pelindung dan dielektrik dalam riset perangkat display dan optik
  • Lapisan isolasi dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik dan fotonik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—