Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target) dari Nanografi ini tersedia per buah dengan indium dan memiliki kemurnian 99,95%. Ukurannya 2'' dengan ketebalan 0,250'', digunakan sebagai bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis MgO melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dari target terkikis lalu berpindah ke permukaan substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis magnesium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi material dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian sputtering sebagai bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG59
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Bonding: Indium
—
—