Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target, MgO) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, diameter 3'' dan ketebalan 0,125'', serta dilengkapi indium. Target ini menjadi bahan sumber dalam proses deposisi sputter untuk membentuk lapisan tipis MgO pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada beragam material serta bentuk dan ukuran substrat. Prosesnya mudah diulang, sehingga cocok untuk eksperimen riset skala kecil maupun produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MgO pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG60
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Bonding: Indium
—
—